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电子化学品材料

半导体显示用产品

光刻胶剥离液

剥离光刻胶效果好，对其它膜层无腐蚀，安全环保，回收率高。

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蚀刻液

可蚀刻 Cu/Ag/Al/Mo/Nb/Ti 等膜层，选择比高。

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集成电路用产品

光刻胶剥离液

适用于前道/后道/先进封装(如 RDL 等)等制程。剥离光刻胶效果好(包括厚膜光刻胶)，对其它膜层无腐蚀，安全环保。

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蚀刻液

适用于金属和非金属膜层，高选择比，保持良好 Profile。

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清洗液

高纯IPA，用于马兰戈尼方式的清洗与干燥。

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总部 : 上海市嘉定区汇发路301号88805·tccn新蒲京大厦

海外总部 : 新加坡科学园大道2号腾飞大厦1楼
华北运营中心 : 北京市大兴区永昌北路9号1幢
华东制造中心 : 江苏省昆山市巴城镇德昌路318号
华中制造中心 : 湖北省孝感市高新区复兴大道398号

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